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三星電子“非存儲器”戰略將受影響 半導體戰略陰影籠罩

發布時間:2019-07-16 16:29:07 來源:參考消息網 責任編輯:caobo

受日本政府對韓國啟動半導體材料出口管制影響,在半導體行業有觀點認為,韓國三星電子的“非存儲器”戰略將受到影響。其原因是,日本限制出口的3類材料之一的“光刻膠(Resist)”可能對三星投產最尖端裝置產生影響。這關乎三星能否在今后的開發競爭中處于優勢地位。

據《日本經濟新聞》網站近日報道,行業團體“韓國半導體產業協會”常務安基鉉就日本加強出口管制的感光材料指出,“從光的波長來看,被稱為EUV的最尖端曝光裝置用光刻膠成為限制出口的對象”。在此基礎上表示“可能對生產大規模集成電路(LSI)的三星使用EUV的生產線產生影響”。

報道稱,一臺EUV售價約200億日元(1日元約合0.06元人民幣),操作也很復雜,但是能夠使更高性能的半導體開發成為可能。目前,能夠在量產線中使用EUV的被認為只有三星和臺積電制造。

圍繞大規模集成電路,三星在作為智能手機“大腦”的半導體代工生產等領域與臺積電競爭,在圖像傳感器領域與索尼競爭。全球市場份額在兩成左右,均位居第2位。三星的主營業務是保存手機等數據的存儲器業務,大規模集成電路在半導體業務營業利潤中所占比例還不到5%。

但是在存儲器市場,去年秋季之前拉動市場增長的美國IT巨頭面向服務器的投資暫歇,今年市場行情出現惡化。三星2019年4月至6月的營業利潤(速報值)較上年同期大幅減少56%。

報道介紹,受市場行情發生變化影響,三星4月份宣布,將在2030年之前投入巨額資金用于設備投資和研究開發。但是,在最尖端工序中使用的感光材料成為限制對象,計劃剛提出就遇挫。韓國的半導體業內人士表示,“三星被戳到痛處”。三星原本計劃2019年下半年開始增產使用EUV的大規模集成電路,但現在可能推遲這一計劃。

另據臺灣鉅亨網7月15日援引韓聯社的報道稱,三星副會長李在镕的日本之行,已經確保三星可以獲得三項半導體關鍵材料的緊急供應,避免可能停產的燃眉之急。

消息人士透露,在7月13日召開的特別會議中,李在镕向公司管理高層告知,他已獲得足夠的氟化聚酰亞胺、光阻劑和氟化氫,以避免生產中斷。

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